Modutek成立于1980年，為半導體制造設施和研究實驗室提供濕法工藝技術的半導體制造設備和解決方案。該公司在內部設計和制造半導體濕法工藝設備，并可以幫助選擇滿足特定客戶要求的更佳設備配置。Modutek可以從其全面的標準濕臺站系列中提出設備，或設計定制解決方案以滿足特殊需求。

除了制造和供應高質量的半導體濕法工藝設備外，Modutek的服務還包括提供詳細的文檔和廣泛的售后支持。圖紙可以包括電氣原理圖、管道和儀表圖紙、布局和安裝圖紙。其他信息包括實體模型、流動模擬和備件文檔。該公司在安裝期間和驗收后提供廣泛的客戶支持。

Modutek是半導體制造行業許多設施的首選濕式工作臺制造商，具有以下優勢：

作為濕式工作臺工藝設備制造商，Modutek提供更高質量的可靠設備。

該公司不斷與客戶合作，開發更好地滿足他們需求的系統，并采用更新技術。

憑借40年的經驗，公司可以提供滿足客戶要求的解決方案。

公司內部的專業知識、設計和生產意味著一站式解決方案，沒有第三方。

內部設計和制造，包括軟件設計，使Modutek能夠提供技術支持。

Modutek提供全面的半導體濕法工藝設備系列，包括全自動，半自動和手動站，可以包含IPA蒸汽干燥器和化學處理站。

由于Modutek設計自己的工作站，因此該公司可以提供定制設計以滿足特定的客戶要求。

作為半導體濕式工作臺制造商，Modutek提供的優勢得到了公司致力于提供高度可靠的設備和實現完全客戶滿意度的支持。Modutek的優勢轉化為半導體制造設施的以下優勢：

由于效率和更新技術的利用，吞吐量更高

由于顆粒數量減少和清潔度提高，減少了浪費，從而減少了缺陷產品

由于工藝一致性和可重復性高，輸出質量更高

通過高設備質量和快速、全面的支持減少停機時間

整體提高設施績效和盈利能力

立即聯系Modutek，為您的晶圓加工，化學品處理和半導體制造要求找到具有成本效益的解決方案。Modutek的工程師和銷售團隊隨時準備討論您的新項目，翻新生產線或設施添加。作為半導體濕法工藝設備和濕法臺站的領先供應商，我們歡迎客戶從頭到尾的咨詢和合作，直到他們完全滿意。

半導體濕法工藝設備和濕法工作臺用于以下應用：

BOE (Buffered Oxide Etch)

Chrome Etch

Flat Panel Display

GaAs Etching Process

KOH Etching

LED Process

MEMS

Metal Etch

Acid Neutralization Systems

Ozone Process, Photo Resist Strip

Ozone Process, Standard Clean

Plating

Positive Resist Strip

Precision Cleaning

SC1 & SC2 Clean

Silicon Etch

Silicon Nitride Etch

Solar (texturing, saw damage and chemical polishing)